Renifery widzą w ultrafiolecie
30 maja 2011, 10:31Testy wykazały, że arktyczne renifery reagują na bodźce świetlne z zakresu ultrafioletu. Biolodzy uważają, że ta niezwykła umiejętność pozwala im znajdować pokarm i unikać drapieżników w specyficznej atmosferze Arktyki, gdzie promieniowania UV nie brakuje, a widoczność często bywa bardzo ograniczona (Journal of Experimental Biology).
Pajęczyna ze wstawkami, które naśladują odbijające UV kwiaty
20 września 2012, 11:47Liczne krzyżakowate przędą sieci z odbijającymi ultrafiolet elementami (stabilimenta). Naukowcy sprzeczają się, czemu mają one służyć. Wspominano już o kamuflażu, sygnałach dla partnerów seksualnych czy odstraszaniu ptaków. Teraz naukowcy z University of Incheon w Korei Południowej postulują, że chodzi nie tyle o straszenie, co o wabienie. Wabienie smakowitych kąsków.
Nowy fotorezyst dla technologii 20 nanometrów
17 listopada 2009, 12:53Toshiba poinformowała o opracowaniu fotorezystu, który współpracuje z litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) i jest pierwszym nadającym się do wykorzystania w 20-nanometrowym procesie produkcyjnym.
TSMC zapowiada szerokie wdrożenie EUV
15 lipca 2016, 09:24Największy na świecie producent półprzewodników, TSMC, oświadczył, że ma na szeroką skalę wykorzystywać ekstremalnie daleki ultrafiolet (EUV). Sądzimy, że EUV do roku 2020 stanie się opłacalna przy masowej produkcji. Planujemy wówczas wdrożenie technologii 5 nanometrów
Intel omija problemy z EUV
1 marca 2010, 15:59Podczas konferencji LithoVision 2010 wiele uwagi przyciągnęło wystąpienie przedstawicieli Intela. Z jednej strony poinformowali oni, że technologia litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) pojawi się, jak dla niej, zbyt późno, z drugiej zaś - że dostosują obecnie używane narzędzia do produkcji 11-nanometrowych układów scalonych.
Intelowskie 7 nanometrów bez EUV?
17 sierpnia 2016, 10:20Podczas Intel Developer Forum przedstawiciele Intela wyrazili wątpliwości, czy ASML zdąży przygotować technologię ekstremalnie dalekiego ultrafioletu (EUV), by była ona gotowa do masowej produkcji 7-nanometrowych układów scalonych.
Ekstremalnie droga litografia
22 listopada 2010, 11:10Na urządzenia litograficzne kolejnej generacji będą mogły pozwolić sobie tylko nieliczne firmy. Sprawdzają się bowiem najbardziej pesymistyczne przewidywania dotyczące ich ceny. Dan Hutcheson, prezes firmy VLSI Research poinformował, że skanery litograficzne pracujące w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) będą kosztowały.... 125 milionów dolarów za sztukę.
Pokonali ostatnią przeszkodę. Czas na masową produkcję EUV
14 lipca 2017, 13:21Trwało to dłużej i kosztowało więcej, niż ktokolwiek się spodziewał, ale w końcu prace nad litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) mają się ku końcowi. Podczas targów Semicon West holenderska firma ASML ogłosiła, że udało się jej stworzyć 250-watowe źródło światła dla EUV
Intel zainwestuje 4 miliardy w EUV
10 lipca 2012, 08:36Intel zainwestuje 4 miliardy dolarów w holenderską firmę ASML, produkującą sprzęt do litografii. W zamian koncern obejmie 15% akcji przedsiębiorstwa.
Nowatorskie źródła światła i elektronika przyszłości dzięki połączeniu grafenu z hBN
10 czerwca 2022, 09:26University of Michigan informuje o odkryciu, które przyspieszy prace nad elektroniką przyszłej generacji oraz nowatorskimi źródłami światła. Naukowcy z Ann Arbor opracowali pierwszą niezawodną skalowalną metodę uzyskiwania pojedynczych warstw heksagonalnego azotku boru (hBN) na grafenie. W procesie, w którym mogą powstawać duże płachty hBN, wykorzystano powszechnie stosowany proces epitaksji z wiązek molekularnych.
« poprzednia strona następna strona » 1 2 3 4 5 6 7 …
